новости
первая страница > новости

горный путь литографических машин: от 7 нм до предела

한어Русский языкEnglishFrançaisIndonesianSanskrit日本語DeutschPortuguêsΕλληνικάespañolItalianoSuomalainenLatina

история 7-нм чипа — это не просто технологический прорыв, а воплощение технологического развития и конкуренции. от «наложения» до «duv» и «euv» на каждом этапе необходимо преодолеть множество проблем, чтобы добиться победы. однако мы сталкиваемся не только с техническими барьерами на пути производства литографических машин, но и с новой эрой, полной возможностей и проблем.

«лодка преодолела десять тысяч гор», эта фраза является знаковым заявлением времени и символизирует твердую решимость людей перед лицом трудностей. но технологическое развитие не означает простых «прорывов» и «превосходств». для этого необходимы непрерывные исследования, постоянное совершенствование и, в конечном итоге, реализация «новых решений по вычислительной мощности».

развитие технологий похоже на восхождение на гору: от литографических машин duv до литографических машин euv, каждый «прорыв» требует преодоления более сложных задач. однако нас не остановить горной дорогой. развитие науки и технологий не ограничивается производством чипов, оно также должно распространяться на такие области, как искусственный интеллект, новая энергетика, аэрокосмическая и океаническая инженерия. это будет направление и ключевой момент будущего развития науки и технологий.

в будущем развитие литографических машин будет способствовать быстрому прогрессу китайской науки и техники и принесет миру новые прорывы. мы должны с нетерпением ждать безграничных возможностей технологий, верить в огромный потенциал научной и технологической мощи китая и активно участвовать в этой волне перемен.